Водоподготовка в микроэлектронике и приборостроении

Водоподготовка осуществляется в соответствии с требованиями ОСТ 11.029.003-80 ИЭТ. Помимо этого стандарта передовые производители отрасли микроэлектроники опираются на нормы более современных мировых стандартов, например, ASTM D 5127-90.

Предприятия микроэлектроники следуют строгим цеховым стандартам по уровню пыле- влаго- содержанию, а также антистатике, так как эти показатели влияют на качественное функционирование изготавливаемых радио-электронных компонентов и материалов.

На предприятиях микроэлектроники  применяется деионизированная вода, она максимально приближена к своей абсолютной химической чистоте, из нее удалены все примеси, в том числе все разнодисперсные незаряженные частицы. Такую воду получают на установках водоочистки с помощью ионообменных смол. Однако такая вода не стабильна и при контакте с любыми загрязнителями, в том числе при контакте с окружающим воздухом, теряет свои свойства. Поэтому в идеальном варианте задача предприятий, используемых данный метод водоподготовки, расположить установки получения сверхчистой воды в максимальной близости к технологической линии, где она применяется.

Технологии очистки

Основные этапы подготовки деионизированной воды:

• Предварительная очистка (аэрация, сорбция, уф-стерилизация);
• Удаление солей на системах обратного осмоса;
• Установки ионного обмена и электродионизация.

Выбор технологии водоочистки зависит от требований к подготовленной воде и характеристик исходной воды.

Компания Россион производит компактные мобильные установки получения ультрачистой воды на основе систем обратного осмоса и ионного обмена.

Установки получения сверхчистой воды Rossion используются на стадии отмывки печатных плат от остатков флюса, который остается после процесса пайки, и его наличие вызывает снижение сопротивления и короткие замыкания. Установки Rossion имеют лаконичный дизайн, мобильны, что позволяет минимизировать линию подачи сверчистой воды.